Шлифовальные круги для полупроводниковых пластин

Используются для утончения и шлифования полупроводниковых пластин. Соответствующие модели станков: шлифовальные станки пр-ва Японии, Германии, США, Южной Кореи и КНР. Заготовки: дискретные компоненты, интегральные микросхемы (ИС), пластины из чистого кремния и т. д. Материал заготовки: кремний, GaAs, InP, SiC и некоторые другие полупроводниковые материалы. Применение: утончение с обратной стороны, грубое шлифование и тонкое шлифование. Особенности:
Легкое шлифование при низком и постоянном токе,
отсутствие сколов по краям и уменьшение повреждений, длительный срок службы.