Круг шлифовальный 6A2T/C 209x24,5x158x3,5x7 8000# V-D

Алмазный шлифовальный круг на керамической связке для финишного утончения полупроводниковых пластин. Предназначен для получения заданной итоговой толщины с минимальной шероховатостью и высокой плоскостностью поверхности.
Обрабатываемые материалы: Si (кремний), SiC (карбид кремния), Al₂O₃ (сапфир, поликор, техническая керамика), GaAs (арсенид галлия), подложки для LED (GaN) и другие полупроводниковые материалы.
Особенности:
— Мелкая фракция алмазного зерна обеспечивает низкую шероховатость поверхности.
— Минимальная глубина поврежденного подповерхностного слоя.
— Высокая стабильность геометрических параметров инструмента в процессе работы.
— Точный контроль равномерности итоговой толщины пластины.
— Совместим с прецизионными плоскошлифовальными станками.
Спецификация круга подбирается индивидуально под конкретный материал, режимы обработки и требуемое качество поверхности.